氣體等離子體：我們的鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)，當(dāng)氣體暴露在電子區(qū)域時(shí)可以形成等離子體。由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，就形成了等離子或離子。電離氣體原子的動(dòng)能相對較小，除非他們通過電場加速。加速時(shí)，他們會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。等離子體系統(tǒng)效應(yīng)的過程轉(zhuǎn)換成材料的蝕刻工藝。活性氣體在分子級(jí)上的使用也產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)。

等離子體處理可應(yīng)用于所有的基材，甚至復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體活化、等離子體清洗，等離子體鍍膜也毫無問題。等離子體處理時(shí)的熱負(fù)荷及機(jī)械負(fù)荷都很低，因此，低壓等離子體也能處理敏感性材料。

氣體等離子體類型：各向異性等離子體是有方向性的，由電氣控制一些具體的高能離子，或某個(gè)范圍的能量（見美國鋁框系統(tǒng)）。

各向同性等離子體是多方位和包含整個(gè)的3 D等離子的設(shè)備（見美國石英筒式設(shè)備系統(tǒng)）。

氣體等離子體處理了超過濕化學(xué)處理幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)。液體表面張力的現(xiàn)象消除，正如泡沫的形成，這可能會(huì)導(dǎo)致不*濕化。等離子蝕刻可以迅速結(jié)束，終止進(jìn)程，而液體蝕刻工藝很難準(zhǔn)確的結(jié)束。

“綠色”的優(yōu)勢：無氟氯化碳和污水，操作和環(huán)境安全。排除有毒和腐蝕性的液體。等離子處理的主要缺點(diǎn)是較低的吞吐量。

美國MYCRO致力于氣體等離子處理，即讓氣體在常溫下，無熱相變下改變。這些氣體可以是惰性的，也可以是起反應(yīng)的。在反應(yīng)性氣體的情況下，利用動(dòng)量轉(zhuǎn)移處理以及氣體反應(yīng)的化學(xué)性質(zhì)改變材料的特性。

鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)Aluminum Chamber Plasma Systems

SCE 14鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)

長寬高356毫米的立方體腔體

外形尺寸559毫米 x 686毫米 x 915毫米 (w,d,h)

SCE 18鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)

長寬高457毫米的立方體腔體

外形尺寸 711毫米x 711毫米x 1651毫米(w,d,h)

SCE 24鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)

長寬高610毫米的立方體腔體

外形尺寸 864毫米 x 813毫米 x 1829毫米 (w,d,h) 

SCE30鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)

長寬高762毫米的立方體腔體

外形尺寸915毫米x 915毫米x 1829毫米(w,d,h)